Uma equipe de pesquisadores do Massachusetts Institute of Technology (MIT) afirma ter encontrado uma nova forma de diminuir as estruturas dos circuitos em semicondutores.
O atual processo de fabricação de chips é baseado em técnicas de fotolitografia, tecnologia que só pode produzir recursos para os microchips maiores do que o comprimento de onda da luz com a qual foram criadas as fotomáscaras (mecanismos que servem para a “impressão” dos circuitos nos semicondutores).
O novo processo, descrito como “Quebrando o limite de difração em microusinagem ótica via fotoquímica repetida e transições eletroquímica em moléculas fotossensíveis” na publicação veiculada na Physical Review Letters, seria capaz de criar estruturas complexas com 1/8 do tamanho do menor comprimento que já alcançamos.
De acordo com os pesquisadores, um efeito chamado “Stimulated Emission Depletion Imaging” proporciona que as características fluorescentes dos materiais emitam luz ao serem alvejados por um feixe de laser.
Controlando a potência desse feixe, os cientistas conseguiram controlar a incidência de luz emitida, ocasionando “manchas escuras” (menores que o comprimento de onda da luz) que podem servir como máscaras para a aplicação de circuitos nas superfícies dos microcontroladores.
Os pesquisadores do MIT acreditam que a descoberta poderia ser usada para criar semicondutores com estruturas muito mais finas do que aquelas que temos hoje. Ela ainda poderia ser uma oportunidade de aplicar essa tecnologia em dispositivos fotônicos.
