Durante o Encontro Internacional de Dispositivos Eletrônicos 2019 (IEDM, na sigla em inglês), realizada pelo Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), a ASML — empresa holandesa que atualmente é a maior fornecedora de sistemas de fotolitografia para a indústria de semicondutores do mundo — apresentou um slide oficial do roadmap de processo de fabricação de chips da Intel. Segundo a empresa, a Intel vai usar estar usando a litografia de 1,4 nanômetros em 2029.
O slide apresentado pela ASML estava modificado, de fato. Onde a Intel havia informado apenas os anos, ao longo do tempo, a companhia holandesa substituiu pelas litografias.
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Veja a imagem modificada pela ASML:
Embora não seja uma informação legítima da Intel, a mídia especializada a julga como relevante, aceitando-a como premissa do que podemos esperar para a evolução nos processos de fabricação de chips para os próximos anos. Até porque, essa projeção não-oficial não foge muito do que a Intel tinha apresentando em anos anteriores, com a diferença de não ter ido tão longe, em relação ao ano.
“Em Moore, confiamos”
O slide oficial ainda possui a inscrição “Em Moore, confiamos”. Gordon Earl Moore é cofundador da Intel e, certa vez, afirmou que a o poder de processamento dos computadores iria dobrar a cada 18/24 meses. A afirmação se transformou no que chamamos de “a lei de Moore”.
O slide mostra exatamente essa evolução, a cada dois anos. Começando em 2019, temos os 10 nm, que a Intel estreou nas CPUs para notebooks. Em 2021 (com a EUV), temos os 7 nm. Nos próximos anos, 2023, 2025 e 2027, temos, respectivamente, as litografias de 5,3 e 2 nm. Em 2029, finalmente, chegamos aos 1,4 nm.
É claro que essa projeção faz sentido para os dias atuais, mas, com o passar dos anos, ela poderá sofrer alterações, que poderão ser tanto antecipações como atrasos nesses processos de evolução.
Um exemplo disso, são os 14 nm em que a Intel está “presa” hoje, quando falamos de CPUs para desktops. A própria companhia já deixou claro que enfrenta problemas para migrar para os 7 nm.
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